在半導(dǎo)體材料的制備過程中，每一道工序都涉及到清洗，而且清洗的好壞直接影響下一道工序，甚至影響器件的成品率和可靠性。由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的減小，對于晶片表面沾污的要求更加嚴格，ULSI工藝要求在提供的襯底片上吸附物不多于50...
Copyright ?]江西科昌達超聲波科技有限公司 技術(shù)支持： 聯(lián)系人：余光斌 電話：0791-85262592 85262256 傳真：0791-85262256 服務(wù)專線：13687083798 地址:江西省南昌市小藍經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)小藍一路219號
備案號：贛ICP備17013938號-1 贛公網(wǎng)安備 36012102000379號
聯(lián)系人：余光斌 電話：0791-85262592 85262256 傳真：0791-85262256 服務(wù)專線：13687083798 地址:江西省南昌市小藍經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)小藍一路219號
贛公網(wǎng)安備 36012102000379號